1.材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。

2.物化領(lǐng)域：激光器、磁場、各種分子泵、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。

3. 生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。

4. 對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。

5.醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機(jī)、微波治療機(jī)、醫(yī)用冷帽、降溫毯等。

6.對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

主要用途：

1、   對(duì)旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、光化學(xué)反應(yīng)儀光源部分進(jìn)行低溫冷卻

2、   對(duì)雙層玻璃反應(yīng)釜夾層進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制

3、   對(duì)分光光度計(jì)的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制

4、   對(duì)超聲波破碎的試料進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制

5、   對(duì)激光加工機(jī)的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制

6、   對(duì)蝕刻裝置的電機(jī)部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制

7、   對(duì)電子顯微鏡的電源、光源部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制

8、   對(duì)工業(yè)用機(jī)械裝置的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制

9、   對(duì)電泳儀、粘度計(jì)、醫(yī)用冷帽、降溫毯進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制

10、對(duì)電鏡、分子泵、離子泵、擴(kuò)散泵、微波治療機(jī)進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制

主要性能：

1、密閉型循環(huán)：冷卻盤管、保溫用套管等密閉回路的循環(huán)裝置。

2、節(jié)省空間：設(shè)計(jì)緊湊、有桌面臺(tái)式型、有受實(shí)驗(yàn)臺(tái)高度限制的立式型。

3、水冷式冷凍機(jī)：配備水冷式冷凍機(jī)，因?yàn)椴徊捎蔑L(fēng)扇排熱，對(duì)環(huán)境影響小。適合在沒有空調(diào)、換氣設(shè)備的室內(nèi)使用，也適合在無塵室使用。制冷系統(tǒng)具有延時(shí)、過熱、過電流多種保護(hù)裝置。均為進(jìn)口原裝高品質(zhì)器件，保證可靠性和使用壽命。

4、配備進(jìn)口高壓泵：配管尺寸較長，可平穩(wěn)的進(jìn)行長距離循環(huán)、冷卻或恒溫機(jī)外實(shí)驗(yàn)容器或建立第二恒溫場。

5、高密度耐腐蝕材料：可循環(huán)純水的循環(huán)泵、冷卻盤管、吐出口、回流口的關(guān)鍵接口都采用不銹鋼（SUS304）制造。

6、循環(huán)介質(zhì)類型：硅油、水、鹽水、純酒精等實(shí)驗(yàn)室常用循環(huán)介質(zhì)。

7、微電腦控制：配置微電腦，能夠進(jìn)行高精度的控制，具備各種安全性能;所有操作均在微機(jī)智能控制儀上按動(dòng)觸摸軟鍵完成，操作簡單、直觀。

8、P.I.D.控制：極力排除影響溫度調(diào)節(jié)精度的外部因素，減小誤差。

9、室外設(shè)置型：裝置可以設(shè)置在室外，適合工廠、研究所不能設(shè)置在室內(nèi)的情況使用。

10、節(jié)能：配備進(jìn)口變頻壓縮機(jī)，根據(jù)循環(huán)負(fù)荷量和冷凍機(jī)的電機(jī)功率做變頻調(diào)節(jié)。